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去除对象:
95% 以上的溶解性盐类(如 Na⁺、Ca²⁺、Cl⁻、SO₄²⁻等),将原水 TDS(总溶解固体)从数千 mg/L 降至数十 mg/L;
几乎所有大分子有机物(分子量>100 道尔顿)、微生物(细菌、病毒)、胶体和悬浮颗粒;
部分溶解性气体(如 CO₂,需配合 “RO 前加碱” 工艺强化去除,减少后续混床的 HCO₃⁻负荷)。
局限性:无法完全去除微量离子(残留盐类浓度约 10-50mg/L)、极小分子有机物(如甲醇)和溶解性气体(如 O₂),需依赖混床补充处理。
核心原理:离子交换反应
阳离子交换树脂:树脂骨架上带有 “可交换的 H⁺”,当水通过时,水中的阳离子(如 Na⁺、Ca²⁺、K⁺、Fe³⁺)会与树脂上的 H⁺发生交换,最终水中阳离子被树脂吸附,H⁺进入水中;
例:R-SO₃H + Na⁺ → R-SO₃Na + H⁺(R 为树脂骨架)
阴离子交换树脂:树脂骨架上带有 “可交换的 OH⁻”,水中的阴离子(如 Cl⁻、SO₄²⁻、NO₃⁻、SiO₃²⁻)会与树脂上的 OH⁻发生交换,阴离子被树脂吸附,OH⁻进入水中;
例:R-N (CH₃)₃OH + Cl⁻ → R-N (CH₃)₃Cl + OH⁻
协同作用:交换产生的 H⁺和 OH⁻会立即结合生成 H₂O(H⁺ + OH⁻ → H₂O),不会导致水质 pH 值波动,同时 “离子交换” 反应会持续进行,直到树脂达到 “饱和”(无法再吸附离子)。
关键优势:
除盐精度极高:可将 RO 产水的残留盐类浓度从 10-50mg/L 降至 0.1mg/L 以下,电阻率提升至 18.2MΩ・cm(25℃下理论纯水电阻率);
去除硅能力强:工业超纯水(如电子、半导体领域)对 “硅”(以 SiO₃²⁻形式存在)要求极严(≤1μg/L),混床阴树脂可高效吸附 SiO₃²⁻,避免设备结垢或产品缺陷;
出水 pH 稳定:因 H⁺与 OH⁻即时中和,出水 pH 通常维持在 6.5-7.5 的中性范围
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