在电子芯片制造领域,对生产用水的纯度要求近乎严苛,水质的微小差异都可能对芯片性能与良品率产生重大影响。某大型电子芯片制造企业,随着业务的快速扩张和生产规模的不断增大,原有的净水设备已无法满足日益增长的用水需求以及更为严格的水质标准。经过多方调研与评估,该企业引入了一套 100 吨反渗透纯水设备,为生产注入强劲动力,成功突破发展瓶颈。 设备适配与运行情况
该企业的生产工艺涉及晶圆清洗、光刻、蚀刻等多个关键环节,这些工序均需要电阻率高达 18MΩ・cm 以上,且几乎不含任何微生物、颗粒杂质以及溶解盐类的超纯水。100 吨反渗透纯水设备配备了多级预处理系统,通过多介质过滤器去除水中的悬浮物、胶体等大颗粒杂质,再经由活性炭过滤器吸附余氯以及部分有机物,为后续的反渗透处理减轻负担。核心的反渗透系统采用了先进的高脱盐率反渗透膜元件,膜孔径极小,仅为 0.0001 微米左右,能高效拦截水中的溶解盐类、重金属离子、细菌、病毒以及微小的有机物分子等杂质,脱盐率稳定在 99% 以上。后续还搭配了 EDI(电去离子)系统,进一步深度除盐,确保产出的纯水水质稳定可靠,完全契合电子芯片制造的超高要求。
设备投入运行后,每小时可稳定产出 100 吨高质量纯水,24 小时不间断供应,有效保障了企业大规模生产的用水需求。智能控制系统实时监测设备运行参数,包括进水压力、流量、水质,以及反渗透膜的压差、产水电导率等关键指标。一旦出现异常,系统立即自动报警,并根据预设程序进行相应调整,如自动启动冲洗程序以防止膜污染,或者切换备用设备,确保整个生产过程不受影响。